場效應晶體管場效應晶體管依靠一塊薄層半導體受橫向電場影響而改變其電阻（簡稱場效應），使具有放大信號的功能。這薄層半導體的兩端接兩個電極稱為源和漏。

     控制橫向電場的電極稱為柵。根據柵的結構,場效應晶體管可以分為三種：

①結型場效應管(用PN結構成柵極)；

②MOS場效應管（用金屬-氧化物－半導體構成柵極,見金屬－絕緣體－半導體系統）；

③MES場效應管（用金屬與半導體接觸構成柵極）;其中MOS場效應管使用*****。尤其在大規模集成電路的發展中,MOS大規模集成電路具有特殊的優越性。MES場效應管一般用在GaAs微波晶體管上。在MOS器件的基礎上,又發展出一種電荷耦合器件 (CCD)，它是以半導體表面附近存儲的電荷作為信息，控制表面附近的勢阱使電荷在表面附近向某一方向轉移。這種器件通常可以用作延遲線和存儲器 等；配上光電二極管列陣，可用作攝像管。 走進無錫微原電子科技的世界，感受半導體器件行業的蓬勃生機！錫山區本地半導體器件

半導體器件（英文：semiconductordevice）是指電子工程中主要用于電子電路或利用半導體導電性的類似器件的元件。半導體器件在工程上非常重要，因為它必然嵌入到手機、電腦、電視等現代電子產品中，此外，2006年全球半導體器件市場規模超過25萬億韓元，因此經濟影響也不容忽視。談到半導體器件的工業重要性，有時被表述為“半導體是工業之米”。

在半導體元件普及之前，電子產品中的有源元件使用的是利用真空或氣體的電子管，但半導體元件具有以下特征，并通過更換電子管而得到改善。 宜興本地半導體器件無錫微原電子科技，以科技之光點亮半導體器件行業的前行之路！

      鍺和硅是**常用的元素半導體；化合物半導體包括Ⅲ-Ⅴ族化合物（砷化鎵、磷化鎵等）、Ⅱ-Ⅵ族化合物(硫化鎘、硫化鋅等)、氧化物(錳、鉻、鐵、銅的氧化物),以及由Ⅲ-Ⅴ族化合物和Ⅱ-Ⅵ族化合物組成的固溶體（鎵鋁砷、鎵砷磷等）。除上述晶態半導體外，還有非晶態的玻璃半導體、有機半導體等。半導體：意指半導體收音機，因收音機中的晶體管由半導體材料制成而得名。本征半導體不含雜質且無晶格缺陷的半導體稱為本征半導體。在極低溫度下，半導體的價帶是滿帶(見能帶理論)，受到熱激發后，價帶中的部分電子會越過禁帶進入能量較高的空帶，空帶中存在電子后成為導帶，價帶中缺少一個電子后形成一個帶正電的空位，稱為空穴。

將純半導體單晶熔化成半導體，并緩慢擠壓生長成棒狀。回歸型它是從含有少量施主雜質和受主雜質的溶液中擠出來的，如果擠出速度快，則生長出P型半導體，如果慢則生長出N型半導體。因為基極區較厚，高頻特性較差。戈隆擴散當在擠壓過程中添加到溶解半導體中的雜質發生變化時，根據晶體的位置，P型或N型半導體會生長。通過這種方法，可以生產二極管的PN和用于二極管的PNP（或NPN），制作了一個晶體管。

端子電極形成在同一平面上，縮短了電流路徑，具有良好的高頻特性。而且由于它可以通過微細加工和應用照相技術排列許多元件來制造，因此可以精確地大量生產，利用這一特點，發明了單片集成電路。

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      大多數半導體使用單晶硅，但使用的其他材料包括鍺、砷化鎵(GaAs)、砷化鎵、氮化鎵(GaN)和碳化硅(SiC)。半導體材料的導電率是由晶體結構中引起自由電子過剩和缺乏的雜質決定的，一般是通過多數載流子（N型半導體中的電子，P型半導體中的空穴）來負責的，但是，各種半導體，例如晶體管為了在器件中工作，需要少數載流子（N型半導體中的空穴和P型半導體中的電子）。半導體的整流效應（*在一個方向上通過電流的特性）**初是在方鉛礦晶體中發現的。早期的無線電接收器（礦石無線電）是在方鉛礦晶體的表面上發現的，上面涂有稱為“貓須”的鉛存儲工具。據說，使用了稱為“”的細金屬線的輕微接觸。無錫微原電子科技，以專業精神塑造半導體器件行業的品牌形象！宜興本地半導體器件

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本征半導體的電流：電子電流+空穴電流。自由電子和空穴所帶電荷極性不同，它們運動方向相反。載流子：運載電荷的粒子稱為載流子。導體電的特點：導體導電只有一種載流子，即自由電子導電。本征半導體電的特點：本征半導體有兩種載流子，即自由電子和空穴均參與導電。本征激發：半導體在熱激發下產生自由電子和空穴的現象稱為本征激發。復合：自由電子在運動的過程中如果與空穴相遇就會**空穴，使兩者同時消失，這種現象稱為復合。動態平衡：在一定的溫度下，本征激發所產生的自由電子與空穴對，與復合的自由電子與空穴對數目相等，達到動態平衡。錫山區本地半導體器件

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