環(huán)境掃描電子顯微鏡（ESEM）允許在樣品室中保持一定的氣體環(huán)境，對(duì)金屬材料進(jìn)行原位觀察。在金屬材料的腐蝕研究中，可將金屬樣品置于 ESEM 的樣品室內(nèi)，通入含有腐蝕性介質(zhì)的氣體，實(shí)時(shí)觀察金屬在腐蝕過(guò)程中的微觀結(jié)構(gòu)變化，如腐蝕坑的形成、擴(kuò)展以及腐蝕產(chǎn)物的生長(zhǎng)等。在金屬材料的變形研究中，可在 ESEM 內(nèi)對(duì)樣品施加拉伸或壓縮載荷，觀察材料在受力過(guò)程中的位錯(cuò)運(yùn)動(dòng)、裂紋萌生和擴(kuò)展等現(xiàn)象。ESEM 的原位觀察功能為深入了解金屬材料在實(shí)際環(huán)境和受力條件下的行為提供了直觀的手段，有助于揭示材料的腐蝕和變形機(jī)制，為材料的性能優(yōu)化和失效預(yù)防提供科學(xué)依據(jù)。?

輝光放電質(zhì)譜（GDMS）技術(shù)能夠?qū)饘俨牧现械暮哿吭剡M(jìn)行高靈敏度分析。在輝光放電離子源中，氬離子在電場(chǎng)作用下轟擊金屬樣品表面，使樣品原子濺射出來(lái)并離子化，然后通過(guò)質(zhì)譜儀對(duì)離子進(jìn)行質(zhì)量分析，精確測(cè)定痕量元素的種類(lèi)和含量，檢測(cè)限可達(dá) ppb 級(jí)甚至更低。在半導(dǎo)體制造、航空航天等對(duì)材料純度要求極高的行業(yè)，GDMS 痕量元素分析至關(guān)重要。例如在半導(dǎo)體硅材料中，痕量雜質(zhì)元素會(huì)嚴(yán)重影響半導(dǎo)體器件的性能，通過(guò) GDMS 精確檢測(cè)硅材料中的痕量雜質(zhì)，可嚴(yán)格控制材料質(zhì)量，保障半導(dǎo)體器件的高可靠性和高性能。在航空發(fā)動(dòng)機(jī)高溫合金中，痕量元素對(duì)合金的高溫性能也有影響，GDMS 分析為合金成分優(yōu)化提供了關(guān)鍵數(shù)據(jù)。